Les exigences pour les objectifs de molybdène sont nettement plus strictes que celles des industries des matériaux conventionnels. Ces exigences impliquent des aspects tels que la taille, la planéité, la pureté, la teneur en impuretés, la densité, les niveaux de N/O/C/S, la taille des grains et le contrôle des défauts. Des exigences encore plus rigoureuses ou spécialisées comprennent la rugosité de surface, les valeurs de résistance, l'uniformité de la taille des grains, de la composition et de la microstructure, la teneur et la taille des matières étrangères (oxyde), la perméabilité magnétique, la densité ultra-élevée, grains ultra-fins, entre autres.
Le revêtement de pulvérisation magnétron est une technique de dépôt physique en phase vapeur nouvellement développée qui utilise un système de canon à électrons pour focaliser et émettre des électrons sur le matériau plaqué. En suivant le principe d'échange de quantité de mouvement, les atomes sont éjectés hors de la surface cible avec une énergie cinétique élevée et se déposent sur le substrat pour former un film. Le matériau utilisé pour le processus de placage est appelé cible de pulvérisation, qui peut être fabriqué à partir de différents matériaux tels que des métaux, des alliages et des composés céramiques.
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